産業用ガス浄化ソリューション｜脱硫および排出制御

プロセス説明

・MDEA脱炭酸プロセス説明：

供給ガスは分離器でろ過され、吸収塔底部から入り、上部から噴霧される希薄MDEA溶液と向流に接触します。CO₂およびH₂Sが選択的に吸収されます。濃厚溶液はフラッシャー槽で減圧され炭化水素を除去された後、希薄・濃厚溶液熱交換器で予熱され、再生塔の上部へ送られます。再沸器内の蒸気 stripping により、CO₂およびH₂Sが脱離されます。再生された希薄溶液は熱交換され、冷却されてからポンプで吸収塔へ戻り、循環使用されます。塔頂からの酸性ガスは硫黄回収装置またはCO₂液化装置へ送ることができます。

・分子ふるい脱水プロセスの説明：

脱炭素後、粗ガスは吸着塔Aに入り、分子ふるい層によって水分が選択的に吸着されます。出口の乾燥ガスは水の露点が≤-60°Cとなり、下流工程へ送られます。吸着飽和後、塔Bは再生プロセスに切り替わります。乾燥ガスまたは窒素をヒーターで加熱し、分子ふるい層の逆流パージに使用します。脱着した水分はクーラーで凝縮・分離されます。その後、冷たい乾燥ガスを用いて層を前方から40°Cまで冷却し、再生を完了して待機状態とします。二つの塔はプログラム制御バルブにより自動的に切り替わり、サイクル時間は8～12時間です。