โซลูชันการกำจัดสิ่งสกปรกในก๊าซอุตสาหกรรม | การกำจัดกำมะถันและการควบคุมการปล่อยมลพิษ

คําอธิบายกระบวนการ

·คำอธิบายกระบวนการถอดคาร์บอนด้วย MDEA:

ก๊าซป้อนถูกกรองผ่านตัวแยกและไหลเข้าสู่ด้านล่างของหอดูดซับ โดยจะสัมผัสกับสารละลาย MDEA ที่มีความเข้มข้นต่ำ (lean MDEA) ซึ่งพ่นลงมาจากด้านบนในลักษณะการไหลสวนทาง ส่งผลให้ CO₂ และ H₂S ถูกดูดซับอย่างเลือกสรร สารละลายที่อิ่มตัวแล้ว (rich solution) จะถูกลดความดันในถังแฟลชเพื่อขจัดไฮโดรคาร์บอน จากนั้นถูกทำให้ร้อนล่วงหน้าในเครื่องแลกเปลี่ยนความร้อนระหว่างสารละลาย lean กับ rich ก่อนจะไหลเข้าสู่ด้านบนของหอฟื้นฟู เมื่อมีการปล่อยไอน้ำใน reboiler CO₂ และ H₂S จะถูกปลดปล่อยออกมา สารละลาย lean ที่ได้รับการฟื้นฟูแล้วจะถูกแลกเปลี่ยนความร้อน ทำให้เย็นลง และสูบกลับไปยังหอการดูดซับเพื่อนำกลับมาใช้ใหม่ ก๊าซกรดที่ออกจากด้านบนของหอสามารถส่งไปยังหน่วยกู้กำเนิดกำมะถันหรือหน่วยเหลว CO₂ ได้

·คำอธิบายกระบวนการอบแห้งด้วยโมเลกุลซีฟ

หลังจากกระบวนการถอดคาร์บอน แก๊สดิบจะเข้าสู่หอการดูดซับ A โดยน้ำจะถูกดูดซับอย่างเลือกสรรโดยชั้นตัวกรองโมเลกุล แก๊สแห้งที่ออกจากหอมีจุดน้ำค้างของน้ำ ≤ -60°C และจะถูกส่งไปยังขั้นตอนถัดไป เมื่อหอดูดซับเต็มตัวแล้ว หอ B จะเปลี่ยนไปสู่กระบวนการฟื้นฟู: แก๊สแห้งหรือไนโตรเจนจะถูกให้ความร้อนในเครื่องทำความร้อนและใช้ในการพ่นล้างย้อนกลับชั้นตัวกรองโมเลกุล น้ำที่ถูกดีซอเบทจะควบแน่นและแยกออกในเครื่องทำเย็น จากนั้นจะใช้แก๊สแห้งเย็นในการทำความเย็นชั้นตัวกรองแบบไหลหน้าจนอุณหภูมิลดลงเหลือ 40°C เพื่อให้กระบวนการฟื้นฟูเสร็จสมบูรณ์และพร้อมใช้งาน อีกครั้ง หอทั้งสองจะสลับการทำงานอัตโนมัติผ่านวาล์วโปรแกรมควบคุม โดยมีรอบเวลา 8–12 ชั่วโมง